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電子氣體

發布時間：2012-7-4 【字體：大中小】

電子氣體
蝕刻氣體（ETCHANT GASES）
BCl3	≥99.999%	Cl2	≥99.999%	CHF3	≥99.999%
C2F6	≥99.999%	C3F8	≥99.999%	C4F8	≥99.999%
HBr	≥99.999%	HCl	≥99.999%	SF6	≥99.999%
NF3	≥99.99%
沉積氣體（SILICON PRECURSOR GASES）
SiH2Cl2	≥99.7%	Si2H6	≥99.998%	GeH4	≥99.999%
GeF4	≥99.95%	SiH3CH3	≥99%	SiH4	≥99.9999%
SiCl4	≥99.98%	SiF4	≥99.99%	SiHCl3	≥99.95%
反應氣體（REACTANT GASES）
NH3	≥99.99999%	CO2	≥99.999%	CO	≥99.997%
N2O	≥99.9995%	SF6	≥99.999%	WF6	≥99.9999%
摻雜氣體（DOPANT GASES）
AsH3	≥99.999%	BF3	≥99.995%	B2H6	≥99.99%
PH3	≥99.9995%	TMB	≥99.5%