四川日韩AV最新地址特種氣體有限公司

電子氣體

蝕刻氣體（ETCHANT GASES）

BCl3

≥99.999%

Cl2

≥99.999%

CHF3

≥99.999%

C2F6

≥99.999%

C3F8

≥99.999%

C4F8

≥99.999%

HBr

≥99.999%

HCl

≥99.999%

SF6

≥99.999%

NF3

≥99.99%

沉積氣體（SILICON PRECURSOR GASES）

SiH2Cl2

≥99.7%

Si2H6

≥99.998%

GeH4

≥99.999%

GeF4

≥99.95%

SiH3CH3

≥99%

SiH4

≥99.9999%

SiCl4

≥99.98%

SiF4

≥99.99%

SiHCl3

≥99.95%

反應氣體（REACTANT GASES）

NH3

≥99.99999%

CO2

≥99.999%

CO

≥99.997%

N2O

≥99.9995%

SF6

≥99.999%

WF6

≥99.9999%

摻雜氣體（DOPANT GASES）

AsH3

≥99.999%

BF3

≥99.995%

B2H6

≥99.99%

PH3

≥99.9995%

TMB

≥99.5%